为什么说光刻是制约先进制程的瓶颈？

半导体工艺工程师面试题：为什么说光刻是制约先进制程的瓶颈？重点考察光刻技术的物理极限、与摩尔定律的关系、技术演进的难度和成本。可结合这是个“为什么”类问题，需要从物理原理和工程现实两个维度回答。 建议先点出光刻面临的核心矛盾（分辨率极限），再说明突破这个极限有多难（技术+成本），最后可以举E...

• 岗位方向：半导体工艺工程师
• 所属章节：光刻工艺技术
• 当前小节：光刻在半导体制造中的作用
• 考察重点：光刻技术的物理极限、与摩尔定律的关系、技术演进的难度和成本。
• 作答建议：这是个“为什么”类问题，需要从物理原理和工程现实两个维度回答。 建议先点出光刻面临的核心矛盾（分辨率极限），再说明突破这个极限有多难（技术+成本），最后可以举EUV的例子来具体化。这样既有理论深度，又接地气。